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半导体装备 Semiconductor

WE3102

12英寸槽式清洗设备

WE3102 12英寸槽式清洗设备

WE3102 12 Inch Wet Bench Clean Tool

主要用于集成电路、新兴应用等领域12英寸清洗工艺。采用？榛、标准化设计，满足客户多种工艺应用需求；集成多功能药液槽，刻蚀速率控制精准；应用先进的低压干燥技术，实现良好的干燥效果。

设备特点

产品应用

晶圆尺寸
12英寸
适用材料
光阻、单晶硅、多晶硅、氧化硅、氮化硅、金属膜、金属氧化物
适用工艺
炉前清洗、刻蚀 / 抛光后清洗、光阻去除、金属氧化物去除、氮化物去除、控挡片回收
适用领域
集成电路、新兴应用

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